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光学式エンコーダ用スケール

リニアスケール

RTL (ステンレススチールテープ)

スケール名

精度

スケールピッチ

熱膨張率 (20℃時)

長さ

対応リードヘッド

RTLF

RTLF20 スケール

20µm: ±5µm/m

40µm (高精度): ±5µm/m
40µm: ±15µm/m

20µm/40µm

10.1±0.2µm/m/℃

最長 10m (10m 超も対応可)

 ATOMATOM DX

RTL (ステンレススチールテープ、トラック選択式)/FASTRACK

スケール名

精度

スケールピッチ

熱膨張率 (20℃時)

長さ

対応リードヘッド

RTLC (FASTRACK と組合せ可)

RTLC20 FASTRACK スケール

20µm: ±5µm/m

40µm (高精度): ±5µm/m
40µm: ±15µm/m


20µm/40µm


10.1±0.2µm/m/℃  

最長 10m (10m 超も対応可)

VIONiCQUANTiCTONiCTONiC UHVTONiC FS

RTLA (FASTRACK と組合せ可)

RTLA/FASTRACK スケール

30µm: ±5µm/m

50µm: ±10µm/m


30µm/50µm

10.1±0.2µm/m/℃

RESOLUTE: 最長 21m

EVOLUTE: 最長 10.02m

RESOLUTERESOLUTE UHVRESOLUTE FSEVOLUTE

RTLR40 (FASTRACK と組合せ可)

新規設計には非推奨

RTLR40/FASTRACK スケール

±15µm/m

40µm

10.1±0.2µm/m/℃

最長 10m

 RGH45

RKL (スリムステンレススチールテープ)

スケール名

精度

スケールピッチ

熱膨張率

長さ

対応リードヘッド

RKLC-S、RKLR-S

RKLC20 スケール

20µm: ±5µm/m

40µm (高精度): ±5µm/m

40µm: ±15µm/m


20µm/40µm

機材の熱膨張率と同じ (両端をエンドクランプで機材に固定時)

最長 20m (20m 超も対応可)

VIONiCTONiCTONiC UHVQUANTiC


RKLF-S

RKLF リニアスケール


20µm: ±5µm/m

40µm (高精度): ±5µm/m

40µm: ±15µm/m

20µm/40µm

機材の熱膨張率と同じ (両端をエンドクランプで機材に固定時)

最長 20m (20m 超も対応可)

ATOMATOM DX

RKLA-S

RKLA リニアスケール

±5µm/m

30µm

機材の熱膨張率と同じ (両端をエンドクランプで機材に固定時)

 最長 21m RESOLUTE

REL (ZeroMet™ 製)

スケール名

精度

スケールピッチ

熱膨張率 (20℃時)

長さ

対応リードヘッド

RELM20、RELE20

RELM RSLM スケール

1m まで±1µm、1m 超は±1µm/m

20µm

0.75±0.35µm/m/℃

最長 1.5m

VIONiCTONiCTONiC UHVTONiC FS

RELA30

RELA スケール

1m まで±1µm、1m 超は±1µm/m

30µm

0.75±0.35µm/m/℃

最長 1.5m

RESOLUTERESOLUTE UHVRESOLUTE FS

RSL (ステンレススチール)

スケール名

精度

スケールピッチ

熱膨張率 (20℃時)

長さ

対応リードヘッド

RSLM20、RSLE20、RSLC20

RELM RSLM スケール

1m まで±1.5µm、2m まで±2.25µm、3m まで±3µm、5m まで±4µm

20µm

10.1±0.2µm/m/℃

最長 5m

VIONiCTONiCTONiC UHVTONiC FS

RSLR20

新規設計には非推奨

RSLR スケール



1m まで±1.5µm、2m まで±2.25µm、3m まで±3µm、5m まで±4µm

20µm

10.1±0.2µm/m/℃

最長 5m

RGH20RGH20F

RSLA30

RELA スケール

1m まで±1.5µm、2m まで±2.25µm、3m まで±3µm、5m まで±4µm

30µm

10.1±0.2µm/m/℃

最長 5m

RESOLUTERESOLUTE UHVRESOLUTE FS

RCL および RGS-G (ガラス製)

スケール名

精度

スケールピッチ

熱膨張率

長さ

対応リードヘッド

RCLC

RCLC スケール

±3µm

20µm/40µm

約 8µm/m/℃

最長 130mm

ATOMATOM DX

RGS40-G

新規設計には非推奨

RGS40-G スケール

±4.2µm/m

40µm

約 8µm/m/℃

最長 1.01m

RGH40

RGS (ゴールドテープ)

スケール名

精度

スケールピッチ

熱膨張率

長さ

対応リードヘッド

RGS

新規設計には非推奨

RGS20-S スケール

±15µm/m

20µm/40µm

エンドクランプで機材と同じ熱膨張率を確保

最長 50m (50m 超はお問い合わせください)

RGH22RGH24RGH25FRGH25F UHVRGH34RGH41

RGSZ20、RGSN20

RGSZ20-S スケール

±15µm/m

20µm

エンドクランプで機材と同じ熱膨張率を確保

最長 50m (50m 超はお問い合わせください)

TONiCTONiC UHV

パーシャルアークスケール

RKL (スリムステンレススチールテープ)

スケール名

精度

スケールピッチ

熱膨張率

長さ

対応リードヘッド

RKLC-S、RKLR-S

RKLC パーシャルアークスケール

20µm: ±5µm/m

40µm: ±15µm/m


20µm/40µm

機材の熱膨張率と同じ (両端をエンドクランプで機材に固定時)

最長 20m (20m 超も対応可)

VIONiCTONiCQUANTiC

RKLF-S

RKLF パーシャルアークスケール

±15µm/m

40µm

機材の熱膨張率と同じ (両端をエンドクランプで機材に固定時)

最長 20m (20m 超も対応可)

ATOMATOM DX

RKLA-S

RKLA パーシャルアークスケール

±5µm/m

30µm


機材の熱膨張率と同じ (両端をエンドクランプで機材に固定時)

 

最長 21m 

 RESOLUTE

ロータリスケール

RES (ステンレススチールリング)

スケール名

目盛精度 (リング直径に依存)

スケールピッチ

熱膨張率 (20℃時)

リング直径


対応リードヘッド

RESR

新規設計には非推奨

RESR スケール(スケールページ)


±3.97~±0.38arc 秒

20µm/40µm

15.5±0.5µm/m/℃ 


52~550mm


RGH20RGH20FRGH40

RESM

RESM-REST スケール(スケールページ)

±3.97~±0.38arc 秒


20µm/40µm

15.5±0.5µm/m/℃


52~550mm


VIONiCTONiCTONiC UHVTONiC FSQUANTiC

RESA30

RESA スケール(スケールページ)

±3.97~±0.38arc 秒


30µm

15.5±0.5µm/m/℃

52~550mm


RESOLUTERESOLUTE UHVRESOLUTE ETRRESOLUTE FS


REX (超高精度ステンレススチールリング) 

スケール名

取付け精度 (リング直径に依存)

スケールピッチ

熱膨張率 (20℃時)

リング直径


対応リードヘッド

REXM20、REXT20

REXM スケール(スケールページ)

(直径≥100mm)±1arc 秒
(直径 75mm)±1.5arc 秒
(直径≤57mm)±2arc 秒

20µm

15.5±0.5µm/m/℃ 

52~417mm


VIONiCTONiCTONiC UHV

REXA30

REXA スケール(スケールページ)

(直径≥100mm)±1arc 秒
(直径 75mm)±1.5arc 秒
(直径≤57mm)±2arc 秒


30µm

15.5±0.5µm/m/℃ 


52~417mm


RESOLUTERESOLUTE UHVRESOLUTE ETRRESOLUTE FS


RCDM (ガラスディスク)

スケール名

目盛精度 (リング直径に依存)

スケールピッチ

熱膨張率 (20℃時)

リング直径


対応リードヘッド

RCDM

RCDM スケール(スケールページ)

±0.5µm

20µm/40µm

約 8µm/m/℃

 17~108mm


ATOMATOM DX