X-Y(平面鏡)システム

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Dual axis plane mirror application X-Y(平面鏡)RLE システムは、2 軸構成の RLU レーザーユニットと 2 つのディテクターヘッドで構成されます(ターゲット光学部品として平面鏡を使用するように設定)。レーザーユニットは操作環境に応じて選択していただきますが、RLU20 は、特に真空環境や空調管理された環境でのアプリケーションに適しています。RLU10 レーザーユニットは RLE10 システムに使用し、RLU20 レーザーユニットは RLE20 システムに使用します。

仕様

データ形式 デジタル - RS422 矩形波
アナログ - 1 Vpp Sin / Cos
分解能 デジタル - 10nm までユーザーが選択可能(ターゲット光学部品として平面鏡を使用)
アナログ - 外付けインターポレイターによりナノメーター以下を実現 (RPI20 パラレルインターフェースなど)
最大追従速度 1m/s(ターゲット光学部品として平面鏡を使用した場合)
使用レーザー光源 HeNe(ヘリウムネオン)、常温常圧時の波長 632.8、クラス II
レーザー周波数安定度 1 時間で ±50 ppb (RLU10)
1 時間で ±2 ppb (RLU20)
レーザー寿命 50,000 時間以上
最大軸長 1m(ターゲット光学部品として平面鏡を使用した場合)

真空以外の環境でのアプリケーションには、環境の変化が起こった場合においても精度を維持できるよう、何らかの方法で屈折率補正を行う必要があります。レニショーでは、これらの変化に対して補正を行うために、RCU10 リアルタイム環境補正システムを用意しています。

RLE システムと RPI20 パラレルインターフェースを組み合わせることによって、分解能を 38.6 ピコメートルにまで高めることができます。このインターフェースは、ディファレンシャルのアナログ信号 1 Vpp Sin/Cos を受信し、パラレルフォーマットで出力を行います。RCU10 補正システム、RLE システムと HS10 長距離レーザースケールに使用できる RPI20 などの補助装置については、アクセサリを参照してください。

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